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無水石膏三相測試儀操作/注意事項(xiàng)
更新時間:2020-01-20   點(diǎn)擊次數(shù):825次

  冠亞石膏粉相組分析儀針對石膏粉行業(yè)研發(fā)的一款新型檢測設(shè)備,該儀器原理符合國標(biāo) GB/T 5484-2000石膏化學(xué)分析方法;GB/T_17669 1 .2-1999建筑石膏_結(jié)晶水含量的測定;非金屬礦石膏結(jié)晶水的測定質(zhì)量法;GB/T 5484-2000 《石膏化學(xué)分析方法》;GB_T36141-2018《建筑石膏相組成分析方法》。

  冠亞石膏粉相組分析儀采用的七寸液晶觸摸屏水分儀,高清晰液晶屏幕數(shù)據(jù)查閱一覽無余。通過大量對比試驗(yàn):冠亞石膏粉相組分析儀結(jié)果與國標(biāo)GB/T 5484-2000 《石膏化學(xué)分析方法》、GB_T36141-2018《建筑石膏相組成分析方法》可達(dá)到一致性,極大地提高了檢測效率,一般樣品可以快速、準(zhǔn)確檢測石膏三相值(無水AIII、半水HH、二水DH)、品位(純度)、附著水、結(jié)晶水、水化C2、二水加熱質(zhì)量變化d2。產(chǎn)品廣泛用于原材料、粉體、顆粒、半成品、成品等材料的附著水及結(jié)晶水快速檢測,針對非金屬礦、建筑石膏、脫硫石膏、磷石膏、天然石膏、工業(yè)副產(chǎn)石膏、石膏砂漿、粉煤灰、煤炭、礦粉等樣品都能準(zhǔn)確的提供水份檢測方案。

無水石膏三相測試儀操作;

(1)附著水與 III 型無水石膏含量的測定。用水分測定儀精確稱取 5 g 試樣 G1,精確至 0.001 g,加入 5 mL 95%乙醇溶液,試樣濕潤均勻,放入水分測定儀并將溫度調(diào)至50℃,烘干至恒重,記錄此時的試樣重量 G2。

當(dāng) G1>G2 時:附著水含量 W=(G1-G2)/G1×100%;III 型無水石膏含量 AⅢ=0;

當(dāng) G1<G2 時:吸附著水含量 W=0;則: III 型無水石膏含量 AⅢ=15.11 (G2-G1)/ G1×100%。

(注:以上分析試樣中,附著水和 III 型無水石膏二者只能有一,因?yàn)闊o水石膏極易吸收水分,因此有附著水就不會有無水石膏)

(2)半水石膏含量的測定。用水分測定儀準(zhǔn)確稱取脫硫建筑石膏試樣 5 g,精確至 0.001 g,記為m1,在足量蒸餾水中浸泡 5 h 以上,然后將水分測定儀溫度調(diào)至 50℃,烘干至恒重,記錄此時試樣質(zhì)量 m2;后將水分測定儀調(diào)至 200 ℃,加熱至恒重,記錄此時試樣質(zhì)量 m3。

c=m2/ m1-1,e=1-m3/m2,純度 S=e/0.2093×100%。

當(dāng) G1>G2 時:半水石膏含量 HH=5.37(c+W)/(1-W)×100%;

當(dāng) G1<G2 時:半水石膏含量 HH=5.37(c-AⅢ×0. 265)×100%。

(3)二水石膏含量的測定。用水分測定儀準(zhǔn)確稱取5 g 試樣,精確至 0.001 g,記為p1,將水分測定儀調(diào)至200 ℃,加熱至恒重,記錄此時試樣質(zhì)量 p2。

d=1-p2/ p1

當(dāng) G1>G2 時:二水石膏含量 DH=4.78[(d-W)-HH×0.062]×100%;

當(dāng) G1<G2 時:二水石膏含量 DH=4.78(d-HH×0.062)×100%。

從以上相分析方法可以看出:鹵素水分測定儀的使用,使得試驗(yàn)過程中的干燥、脫水、稱量等過程全部通過一臺儀器完成,簡化了酒精溶液水化法—真空干燥試驗(yàn)過程中需要使用干燥器、真空干燥箱及馬弗爐等多種設(shè)備的繁瑣的試驗(yàn)過程,減少了人為誤差;采用DSC(差示掃描量熱法)進(jìn)行石膏相組成分析,此方法需要選取參比樣,而且計(jì)算過程較為復(fù)雜??焖?、可靠的鹵素水分測定

無水石膏三相測試儀

注意事項(xiàng):

1、存放環(huán)境:

①存放前進(jìn)行儀器各部件外部清理、通電、稱重校準(zhǔn),嚴(yán)禁非專業(yè)人員拆裝儀器;

長期停用時,應(yīng)把儀器右側(cè)溫度調(diào)節(jié)門關(guān)上,配件放置然后裝箱,保存在干燥和無腐蝕性氣體的環(huán)境中。     

2安裝環(huán)境:

儀器不得安裝在有腐蝕性氣體室溫低于5度或高于40度的地方,因?yàn)槭覂?nèi)具有腐蝕性氣體會對儀器電路部分腐蝕,造成的后果就是直接縮短儀器壽命

儀器不得安裝在陽光照射與濕度大的地方,以免造成儀器的變形等。

不得安裝在電源不穩(wěn)定的地方,容易縮短加熱光源的使用壽命。

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